Датчик уровня IFM LR3000, использующий технологию управляемого микроволнового радара, предназначен для высокоточного измерения уровня жидкостей и сыпучих материалов в промышленных резервуарах и емкостях. Благодаря своей надежности и способности работать в сложных условиях, таких как высокое давление, экстремальные температуры, пыль или химически агрессивная среда, IFM LR3000 становится универсальным решением для различных отраслей промышленности, включая химию, пищевую промышленность, фармацевтику и машиностроение.
Основные характеристики:
- Тип устройства: Датчик уровня (управляемый микроволновой радар).
- Модель: LR3000.
- Принцип работы: Управляемый микроволновой радар, который обеспечивает стабильные и точные измерения независимо от плотности среды, наличия пены, пара или загрязнений.
- Диапазон измерений: До 10 метров, что делает его подходящим для различных размеров резервуаров и емкостей.
- Материал зонда: Нержавеющая сталь 316L, устойчивая к коррозии и воздействию агрессивных химических веществ.
- Выходной сигнал: Аналоговый 4-20 мА, что позволяет легко интегрировать датчик в существующие системы управления.
- Напряжение питания: 18-30 В постоянного тока (DC), совместимое с большинством стандартных промышленных источников питания.
- Интерфейс подключения: Разъем M12 для быстрого, надежного и безопасного подключения.
- Температурный диапазон: От -25°C до +80°C, что делает датчик универсальным для различных климатических и производственных условий.
- Степень защиты: IP68/IP69K, что гарантирует полную защиту от пыли, влаги и водяных струй под высоким давлением, обеспечивая длительную эксплуатацию в суровых условиях.
- Применение: Подходит для контроля уровня жидкостей и сыпучих материалов в резервуарах, силосах, баках и других емкостях. Эффективен в условиях повышенной агрессивности среды, высокого давления или сильной пыльности.
Датчик уровня IFM LR3000 предоставляет точное, надежное и долговечное решение для контроля уровня в промышленности, способствуя повышению эффективности и безопасности технологических процессов.
Отзывы
Отзывов пока нет.