SIWAREX R Пластина Основания для Нагрузочных Ячеек серии RH Siemens 7MH4115-5BC11

96525,00 

Категория:

Пластина основания Siemens 7MH4115-5BC11

Пластина основания SIWAREX R предназначена для работы с датчиками серии RH. Она обеспечивает надежную поддержку и точную установку, что повышает точность и надежность измерений веса и силы.

Изготовлена из нержавеющей стали, что гарантирует долговечность и устойчивость к коррозии. Рассчитана на нагрузки 6 или 13 тонн и комплектуется тремя штифтами для надежной фиксации.

Характеристики:

Серия: SIWAREX R

Модель: 7MH4115-5BC11

Тип устройства: Пластина основания для нагрузочных ячеек

Совместимость: Нагрузочные ячейки серии RH

Расчетная нагрузка: 6 тонн или 13 тонн

Материал: Нержавеющая сталь

Комплектация:

Пластина основания

3 штифта для фиксации

Преимущества:

Высокая точность: Обеспечивает корректную установку нагрузочных ячеек, гарантируя точность измерений.

Долговечность: Нержавеющая сталь обеспечивает длительный срок службы и устойчивость к агрессивным условиям.

Простота установки: Три штифта позволяют легко и надежно монтировать устройство.

Универсальность: Подходит для широкого спектра промышленных задач, где требуется точное измерение веса и силы.

Области применения:

Пластина основания Siemens 7MH4115-5BC11 используется в:

  • Производственных процессах
  • Логистике и транспортировке
  • Складском хозяйстве
  • Обработке материалов

Пластина идеально подходит для интеграции в системы взвешивания, измерения нагрузок и другие приложения, требующие высокой точности и надежности. Обеспечивает стабильную работу современных автоматизированных систем управления и контроля.

Ключевые преимущества использования: Пластина сочетает прочность, точность и удобство монтажа, что делает ее незаменимым компонентом в промышленных системах, где важны минимизация погрешностей и бесперебойная работа оборудования.

Отзывы

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на “SIWAREX R Пластина Основания для Нагрузочных Ячеек серии RH Siemens 7MH4115-5BC11”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *